輻射制冷是一種具有巨大應用潛力和應用前景的無(wú)碳制冷技術(shù)。它通過(guò)發(fā)射8-13微米的熱輻射將地表熱量導向太空，同時(shí)反射絕大部分的太陽(yáng)輻射，可使物體即使在正午太陽(yáng)光照下，也能達到低于空氣的表面溫度。然而現階段的輻射制冷薄膜，在遠紅外波段的光譜選擇性較差，這限制了它們的降溫性能，這種降溫抑制在高濕度地區尤其明顯。

    近期，香港科技大學(xué)黃寶陵教授團隊在國際權威期刊《Advanced Materials》上報道了一種由溶液法制備的，具有高光譜選擇性的無(wú)機輻射制冷薄膜。此薄膜由一層反射膜，一層氮氧化硅膜和一層自排列二氧化硅微球組成，結構上比此前報導的由光子多層膜體系制作的無(wú)機輻射制冷薄膜更為簡(jiǎn)單。該薄膜不但具有94.6%的大氣窗口（8-13微米）發(fā)射率，且遠紅外光譜選擇性達到1.46，突破了此前無(wú)法同時(shí)實(shí)現高發(fā)射率和高選擇性的限制。配合96.4%的太陽(yáng)反射率，該薄膜在香港的高濕度環(huán)境以及沒(méi)有任何對流和輻射屏蔽情況下，獲得了高達5度的秋季正午降溫和高達2.5度的夏季正午降溫。此外，得益于薄膜自身的無(wú)機組份和疏水表面，在長(cháng)時(shí)間持久測試中，該薄膜展現了優(yōu)異的戶(hù)外環(huán)境抗性和自清潔功能，十分適合于高溫高濕地區使用。本文第一作者為香港科技大學(xué)博士后研究員林崇佳，共同一作為香港科技大學(xué)李洋博士。

    【研究亮點(diǎn)】

    1.相對于以往工藝復雜昂貴的超材料無(wú)機選擇性薄膜，本工作中的無(wú)機輻射制冷薄膜結構簡(jiǎn)單，僅包含三層功能層，制冷性能更加優(yōu)秀，且可通過(guò)溶液法批量制備，成本大為降低。該薄膜的表面散射使其顏色為白色，能有效避免鏡面反射導致的光污染問(wèn)題。

    2.該薄膜巧妙地運用了硅氧鍵和硅氮鍵在致密層狀和顆粒狀態(tài)下，分別于大氣窗口內互補的光學(xué)震動(dòng)峰值進(jìn)行結合，獲得了高紅外發(fā)射率（94.6%）同時(shí)兼具高光譜選擇性（1.46）。

    3.在香港的高溫高濕環(huán)境中，且不使用任何對流遮擋覆蓋的情況下，于秋季獲得了高達5度的正午降溫，于夏季獲得了高達2.5度的正午降溫。其制冷溫度比非遠紅外選擇性制冷薄膜高出40%。

    4.得益于其全無(wú)機材料組份，該薄膜擁有優(yōu)異的耐紫外輻射和耐水浸泡性能。表面的無(wú)機粘合層和強疏水性，也使其擁有良好的耐久性和自清潔功能。

    【圖文導讀】

    圖1 輻射制冷薄膜的光譜和制備流程

    圖2 輻射制冷薄膜的結構和光學(xué)性能

    圖3 制冷薄膜的戶(hù)外實(shí)驗和測試結果

    圖4 制冷薄膜的性能對比和耐久性研究

    【小結】

    綜上所述，本工作提出了一種結構簡(jiǎn)單的輻射制冷薄膜，實(shí)現了大氣窗口的高發(fā)射率和遠紅外的高選擇性，突破了此前二者難以兼得的限制。全無(wú)機組份和溶液法加工工藝也使其擁有更好的環(huán)境耐性和大規模低成本生產(chǎn)潛力。